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导电碳夹层芯片剪切测试:如何检测Die键合连接强度?

 更新时间:2026-10-26 点击量:5

最近,科准测控接到一项导电碳夹层键合Die的剪切测试需求。客户需要通过推拉力测试机对样品施加侧向载荷,以评估键合结构的抗剪切能力。

在半导体封装及芯片键合工艺中,Die与基板之间的连接结构会影响封装组件的机械可靠性。对于采用导电碳夹层结构的键合样品,需重点评估芯片与中间层、基板之间的连接强度,避免因界面结合不足引发芯片剥离或连接结构破坏。

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那么,导电碳夹层键合Die剪切力如何精准测量?怎样通过Die Shear测试客观评价芯片键合强度?本文科准测控小编围绕测试原理、测试标准、测试设备及操作步骤,为您系统解析具体测试方案。

 

一、测试原理

碳夹层键合Die剪切测试(Die Shear Test)的核心原理是:利用剪切刀头从Die侧面施加水平载荷,使芯片与中间层、基板构成的连接结构承受剪切应力,直至发生界面脱离或结构破坏。测试设备实时记录加载过程中的力值变化,并提取最大剪切力,用于定量评价样品在规定条件下的抗剪切性能。

针对碳夹层键合结构,测试完成后还需借助显微系统观察各连接界面的失效模式,判定失效是发生于Die与中间层界面、碳夹层内部,还是中间层与基板界面。

 

二、测试标准

MIL-STD-883 Method 2019:Die Shear Strength(芯片剪切强度测试)

该方法可作为微电子器件芯片剪切强度测试的参考,涉及试样固定、剪切加载、剪切力测量及失效情况评价等内容。

针对碳夹层键合Die,应结合样品尺寸、夹层结构、基板材质及客户测试要求,确定剪切刀头、加载速度、剪切高度及合格判定条件。

 

三、测试设备

本次测试采用科准测控Alpha-W260推拉力测试机,配合高倍显微观察系统、专用剪切刀头及专用固定夹具,对碳夹层键合Die进行剪切力测试。

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测试条件:

测试样品:导电碳夹层键合Die

测试类型:破坏性剪切测试

加载速度:200 μm/s

剪切高度:100 μm

 

四、测试步骤

1. 准备测试样品

准备碳夹层键合Die样品,确认Die尺寸、厚度、基板结构及键合位置。

测试前检查样品表面是否存在明显裂纹、边缘缺损或连接异常,并做好样品编号。

2. 固定测试样品

将样品安装在Alpha-W260推拉力测试机的测试平台上,通过专用夹具固定基板,避免剪切过程中发生移动或翘起。

固定时应保证Die侧面具有足够的刀头操作空间,同时避免夹具对样品键合区域产生额外载荷。

3. 显微定位

通过显微观察系统找到待测Die,调整测试平台,使剪切刀头与芯片侧壁对准。

检查刀头与样品的相对位置,确认加载过程中不会直接碰撞基板或其他非测试结构。

4. 调整剪切高度

根据Die厚度、碳夹层位置及测试要求设置剪切高度。

本次测试记录采用100 μm剪切高度。调整时应以规定的基准面为依据,使刀头作用于指定的Die侧壁位置,避免直接推动碳夹层或基板。

5. 设置测试参数

在测试软件中选择破坏性剪切测试模式,设置传感器量程、加载速度及停止条件。

本次测试采用200 μm/s加载速度,并使用相应的大量程剪切测试配置。

测试前应确认传感器量程能够覆盖预期剪切力,同时检查刀头安装及样品固定状态。

6. 开始剪切测试

启动Alpha-W260推拉力测试机,剪切刀头按照设定速度从Die侧面施加水平载荷。

随着载荷增加,Die与碳夹层、基板之间的连接结构逐渐承受剪切作用。当连接结构发生脱离或其他破坏时,设备记录相应的力值变化。

测试完成后,保存最大剪切力及相关测试数据。

7. 记录并分析测试结果

测试结束后,观察Die、碳夹层及基板的破坏位置,并结合剪切力数据分析连接结构的失效情况。

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重点关注以下几种情况:

界面分层:Die与碳夹层之间发生界面脱离;

内聚破坏:碳夹层内部发生破坏;

界面分层:碳夹层与基板之间发生界面脱离;

本体破裂:Die或基板本体发生破裂。

不同失效形式反映的连接状态存在差异,应结合样品结构及客户判定要求进行分析,不能仅依据最大剪切力判断键合质量。

 

以上就是科准测控小编为您介绍的导电碳夹层键合Die剪切测试原理、测试标准、测试设备及操作步骤。针对导电碳夹层芯片剪切力测试、Die Shear键合强度检测、芯片与基板连接强度测试及大推力芯片剪切测试等需求,科准测控可根据样品尺寸、连接结构及测试力值范围评估相应配置。如您对芯片剪切力测试机选型、剪切刀头配置或非标夹具定制有疑问,欢迎联系科准测控获取免费技术支持。