在现代微电子封装中，模塑料不仅需要保护芯片免受外界环境影响，还必须具备阻燃特性以满足安全标准。然而，阻燃剂在高温高湿等jiduan条件下的化学稳定性，直接关系到芯片内部键合界面的长期可靠性。本文科准测控小编将系统解析这一微观化学过程及其对器件寿命的影响。
溴系阻燃剂的“稳定"与“释放"
目前广泛使用的高质量模塑料多采用溴系阻燃剂，其溴原子通常通过稳定的化学键与聚合物骨架结合，在器件常规工作温度下不易游离。然而，在加速老化测试（如HAST）或jiduan高温条件下，化学键可能断裂，释放出少量游离溴离子，成为潜在腐蚀反应的起点。
三氧化二锑的“双重角色"
为增强阻燃效果，传统配方中常添加三氧化二锑（Sb₂O₃）作为协同剂。问题在于，游离溴可能与Sb₂O₃反应生成卤化锑络合物，这些物质具有迁移性，可逐步渗透至芯片的金-铝键合界面。在电化学作用下，铝键合盘可能发生腐蚀，生成绝缘的氧化铝或氢氧化铝，最终导致键合失效——这是微电子封装中一种典型的失效模式。
技术演进：从“消除风险"到“主动清除"
为应对这一挑战，行业技术路径已向两个方向发展：一是逐步淘汰三氧化二锑，从源头避免卤化锑生成；二是引入zhuanli性“离子清除剂"，其可主动捕捉并中和材料中背景级别的游离溴、氯离子。实验表明，采用此类新材料的器件在135℃、207kPa的高压环境中持续测试1400小时后，仍保持键合完整性，显示出显著的技术进步。
科学共识尚未形成：腐蚀机制的多重解释
尽管业界已在工程层面取得进展，但对腐蚀的确切化学机制仍存在学术分歧。不同研究分别提出了氢氧化铝生成、冶金相分离、金属间化合物氧化、挥发性卤化物迁移等多种解释模型。这些机制可能对应不同的材料体系或环境条件，其具体触发路径与主导因素尚未被完整界定，反映出该问题的系统复杂性。
微电子封装的长期可靠性，建立在材料配方设计、工艺控制与系统性验证的紧密配合之上。科准测控在长期支持客户研发的过程中，持续提供包括高温高湿测试、离子迁移分析、键合界面表征在内的综合测试方案，帮助客户精准评估材料稳定性与失效风险。若您在材料选型、可靠性验证或失效分析方面需要进一步的技术支持，欢迎与我们联系，共同提升产品的核心可靠性。
